方案概述
真空(kōng)鍍膜機(jī)主要(yào)用(yòng)于對(duì)半導體(tǐ)、光(guāng)伏、電(Ωdiàn)子(zǐ)、精密光(guāng)學等行(xíng)業(yè)的(de)納米級表面處理(lǐ)。它是(shì)采用(yòng)電(diàn)子(zǐ)束蒸發原理(lǐ)，通(tōng)過電₹(diàn)子(zǐ)槍發射高(gāo)壓電(diàn)子(zǐ)轟擊坩埚中的(de)待鍍靶材，使其在高‌(gāo)真空(kōng)下(xià)蒸發并沉積在被鍍基片上(shàng)以獲得(de)鍍膜。其控制(zhì)核心為(wèi)電(★diàn)子(zǐ)槍掃描軌迹路(lù)線算(suàn)法、電(diàn)子(zǐ)槍加熱(rè)功率控制(zhì )、鍍膜沉積速率平穩性控制(zhì)、多(duō)層膜系自(zì)動切換控制(zhì)、以及相(xiàngε)關安全容錯(cuò)等控制(zhì)。
方案構成
· 通(tōng)過海(hǎi)得(de)e-Control PLC 構建了(le)自(zì)動化(∑huà)控制(zhì)系統地(dì)核心硬件(jiàn)平台，實現(xiàn)對(duì)整個(gè)鍍膜系統各控制(zhì)部件(jiàn€)、傳感器(qì)等數(shù)據處理(lǐ)和(hé)控制(zhì)。
· 通(tōng)過海(hǎi)得(de)NetSCADA組态軟件(jiàn)構建了(le)HMI人(rén)機(jī)交互界面，實現(xiàn)該系統與操作(zuò)員(>yuán)、工(gōng)藝師(shī)、運維等不(bù)同身(shēn)份人(rén)員(yuán)的(de)友(yǒu)好(hǎo)的(de)交互管理(lǐ)。實現(xiàn)對(duì)系統各♥項指标做(zuò)到(dào)可(kě)監視(shì)、可(kě)控制(zhì)、可(kě)追溯。

系統主要(yào)特點
· 提供多(duō)達99層一(yī)次成膜支援；
· 自(zì)動倒幕翻轉，可(kě)實現(xiàn)雙面鍍膜；
· 支持Excle導入靶材、設備參數(shù)、工(gōng)藝參數(shù)等；
· 支持電(diàn)子(zǐ)槍像素點數(shù)量自(zì)定義控制(zhì)，實現(xiàn)靶材的(de)無縫隙加熱(rè)控Ω制(zhì)；
· 針對(duì)不(bù)同加熱(rè)段，采用(yòng)不(bù)同蒸鍍模式，保證熔料均溫的(de)同時(shí)，保證←熔料效率；
· 一(yī)鍵式啓動，從(cóng)啓動到(dào)生(shēng)産結束隻需輕點一(yī)下(xià)鼠标，各種生(s÷hēng)産流程自(zì)動完成；
· 批号式數(shù)據管理(lǐ)方案，實時(shí)自(zì)動保存生(shēng)産信息，對(duì)生(shēng)産數(shù)據有(¥yǒu)據可(kě)查；
· 網絡化(huà)方案，提供遠(yuǎn)程組網端口，輕松實現(xiàn)遠(yuǎn)程多(duō)系統集中控制(zh‌ì)和(hé)管理(lǐ)；